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高纯在半导体工业生产中，几乎各个工序都会用到**高纯气体，器件的质量与**高纯气体的纯净度密切相关。而高纯是应用较广泛的高纯气体之一，它主要用于半导体、电子、冶金、化工、热处理等行业。近年来 高纯氮价格，对高纯体的纯度要求越来越高，如半导体**技术领域单晶硅的制备要求保护气体N_2的纯度在99.9999%以上，而我国目前生产的高纯N_2气体纯度一般为99.999%以下。此外，高纯气体中痕量组分的定值分析方法的欠缺是制约我国高纯气体进一步提高纯度的瓶颈。本文改进了高纯高压纯化工艺，通过催化吸附的方法对原料气进行纯化，可以纯化得到纯度在99.9999%以上的高纯。通过改进充气排，采用先进的无缝焊接技术，保证了充装到钢瓶中的纯度，实现了高纯的批量生产。进行了对高纯气体中的微痕量杂质组分分析方法的研究，包括脉冲放电氦电离色谱法测无机气体、傅立叶红外光谱法测定CO和CO_2、微量氧及微量水的检测方法等
高纯的纯化工艺1.1工作流程1.1.1高纯气流程原料气-过滤器-热交换器-反应器-过滤器-热交换器-散热器-除水-自动三通转向阀-吸附器-自动三通转向阀-过滤器-气排-钢瓶1.1.2再生吸附流程高纯气体-减压阀-混合-自动开关阀-吸附器-自动。高纯*-减压阀-开关阀-减压阀-电磁阀-放空。1.1.3气排高纯气体-减压阀-开关阀-气排-钢瓶。抽洗-开关阀关-打开抽气泵-开关阀-真空指示。灌装-开关阀-气排-钢瓶。1.2工艺原理原料气中含有**气体，NOx，SO2，CO，CO2，H2O，O2。将原料气通入装有催化剂的反应器中，在350℃高温中，**气体，CO，O2，反应生成CO2，H2O，NOx，SO2有部分分解，高温气体经过降温除理，进入吸附器中。气体中含微量的O2 高纯氮，CO2 高纯氮莱西厂家，H2O，NOx，SO2被吸附剂所吸附。原料气就可以获得10的7次方高纯气体。
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